Anchor Semiconductor | 丸紅情報システムズ

◆Anchor Semiconductor Inc.とは
本社	米国カリフォルニア州サンタ・クララ市
社長	Dr. Chenmin Hu;President&CEO
設立	2000年
ホームページ	http://www.anchorsemi.com/index.php
会社概要	２００１年からDFMビジネスに参入し、当初よりDFMの重要性を謳っています。　OPC検証分野では先駆者です。 NanoScope DFM platformはPre-OPCデータ及びPost-OPCデータからウェハー・イメージまでのリソグラフィ・パターンループのためのソフトウェア群です。日本、韓国、台湾及びシンガポールに代理店があります。

NanoScope-HPA （Hotspot Pattern Analyzer）は、設計検証から製造プロセスのキャラクタライズまで広範なフェーズで発見される様々なタイプの"ばらつき"を強力に分析、処理するソリューションを提供しています。 Anchor社の独自技術（Pattern Centric）に基づくDFMプラットフォームにインテグレーションされたHPAは、OPC検証のホットスポットレポートやレイアウトのプロセス・センシティビティー・チェック結果等ばかりでなくウェハーとマスクの検証のdefectレポートも扱えます。これにより設計者はホットスポットグループ、デザインレイアウト及びウェハー・イメージやマスク・イメージを素早く、インタラクティブに確認できます。設計者は、HPAのユニークパターンやユニークセルの抽出機能により、即座にバイオレーションの回数が多いパターンを発見できます。設計者はHPAのソーティング、フィルタリング、リグループングと再クラス分け機能により、効果的にホットスポット形状のサンプルを検索したり、個別のあるいはグループのホットスポットの解析と処理を可能とします。ユーザーフレンドリーなGUIインターフェースは、異なる設計者間や部署間で共通なコミュニケーションプラットホームを提供します。

	簡単に入力データフォーマットの変換ができます、　またその際にオリジナルのグループ情報やクラス分類のための情報も取り込むことができます。

	ユーザーフレンドリーなGUI操作とマルチフォーマット、ヒストグラム表示、ソーティングとフィルタリング機能。

	マルチレベルのフィルタリング、プロットと統計的解析機能。

	お使いのOPCツールのフローに簡単に組み込めます。

	個別またはグループごとのタイル表示、Chip全体またはウェハーやマスクのリファレンス・イメージとの重ね合わせなどホットスポットを様々な要求に合わせ表示できます。

	階層構造のセルの表示でDefect箇所を抽出。

	完全一致パターン抽出/マッチング機能

	近似パターン抽出/マッチング機能

	数百万のdefectを処理可能。

	高度なdefect printability(CD,MEFF,NILS)チェック機能

	個別またはグループのdefectの処理と追跡ができます。

NanoScope-DPE™（Design Pattern Explorer）は、フルチップデザインに利用できるユニークなレイアウト分析とパターン検索ツールです。最新プロセスのIC製造に対応したユニークなデザインベースのパターンセントリック技術は、歩留まりの管理とその向上を実現します。 NanoScope-DPE™（Design Pattern Explorer）の特許技術のパターンサーチは、検索困難なパターンを容易に探す能力を持ちます。フルチップに対応したユニークなレイアウトパターン分析機能は、デザインをチェックして危険なパターンと危険な領域の情報を提供します。 DPEのレポートは、歩留まりに影響するディフェクト・ホットスポットと危険なパターンを直接的に関連づける情報を報告します。この情報によってユーザーは、危険なパターンや危険な領域だけに注力でき、分析時間の短縮と歩留まりの向上を実現できます。

	デザインレイアウト分割とパターンシグネチャ分析。

	パターンシグネチャは、パターン（あるいは頂点）、パターン密度、最小図形個数（幅、スペースあるいは孤立）、ラインエンドのタイプとその個数、コンタクト・ビア個数、特別なコンタクト・ビアのプロパティ、特別なゲートのプロパティ、マルチレイヤーの接続性等をチェックします。

	シグネチャベースのプロセスの危険な領域をランキングする機能。確認と監視のために危険な領域をシグネチャベースのプロセスによって提供します。

	プリディファインのパラメタライズの検索機能は、リソ歩留まりの関係するセンシティブパターン、CMP、また、他の検証を行うことができます。

	パターンライブラリーテンプレートによる完全一致のテンプレート・パターン検索。

	パターンライブラリーテンプレートによる類似一致のテンプレート・パターン検索。シミュレーションコンター、SEMイメージを入力テンプレートライブラリーとして使用できます。

	他のNanoScope製品（HPAやDPL）と、容易に統合することができます。

NanoScope-POA（Pattern based OPC Accelerator）は、先端テクノロジーノードのモデルベースOPCのコストと処理時間を大幅に節約するため
のツールです。その強力で独自(Pattern Centric)のアプローチは、フルチップデザインのジオメトリ情報を分析してユニーク・パターンのライブラ
リを生成し、OPC結果の再利用によりOPC処理時間の大幅な削減に威力を発揮します。NanoScope-POAは、フルチップデザイン設計の最先端
のお客様で厳密なテストの結果、マスク処理時間を大幅に短縮することを証明しました。

	処理時間の短縮：POAは、従来モデルベースOPCフローと比較して少なくとも10倍の処理時間短縮を提供します。繰り返しが多いセルやパターンがある場合さらに処理時間短縮の向上が期待できます。

	総所有コスト（CoO）の削減： NanoScope-POAを採用することによって、従来のモデルベースOPCツールの使用を 50％あるいはそれ以上削減できます。

	OPC品質の向上： POAは、従来のモデルベースOPC結果と比較し、より安定した（同じ形状のデザインに対し、同じOPCを出力）結果を提供します。OPC結果の収束の問題と厳しいCD値の制限を容易に解決できます。

	お使いのOPCツールのフローに簡単に組み込めます。

	OPC精度は、お使いのOPCツールから生成されたPost-OPCデザインを使用することによって保証されます。

	業界最速のパターン・マッチ機能とOPCパターンライブラリーを利用した高速で豊富なパターン検索機能。

	OPCパターンライブラリーは、様々なパターンをインクリメンタルに登録し作成できるため、使い続けることでその効果が自動的に増大します。

	簡単かつ効果的なOPCパターンライブラリデータベース管理ユーティリティ。

	ツールパフォーマンスは、数百個のCPUにおいてもリニアに拡張されています。

Defect Pattern Library (DPL)は、pattern-centric NanoScopeプラットフォーム上に構築されています。DPLは、パターン・ベースの知識を共有・再利用するためのユーティリティーとインターフェイスを提供いたします。設計者はDPLを利用することにより、異なるソース（設計段階やPost-OPC検証段階、マスク作成段階やウェハー作成段階など）で発見された問題のあるパターンを保存し管理することができます。設計者はDPLを問題を起こすパターンテンプレートの集積として使用し、内蔵された検索エンジンによって設計の初期段階で簡単かつ高速にこれらのパターンを発見・識別することができます。

	設計段階でのプロセス・センシティビティー・チェック、Post-OPC検証、マスクやウェハーのプリンタビリティー・テェックからフェイリアー・アナリシスまで設計から製造まで幅広いフェーズでお使いいただけるアプリケーションです。

	設計、OPC、製造などで問題になったり歩留まり低下の原因となったパターンを蓄積することにより、それらの処理や再利用を効率的に実施できます。

	パターン検索やパターンマッチが高速に行えます。

	各パターンにタグやインディクスを付加することにより、パターンの分類、検索や解析がより容易に行えます。

	強力な表示機能をもつユーザーフレンドリーGUIベースの操作 ○ 選択したパターングループのタイル表示 ○ リファレンスイメージの表示

NanoScope-PRVは、モデルベースのPattern-centricのフルチップPost-RET/OPCの検証ソフトウェアです。
NanoScope-PRVは、非常に高速、高精度なOPC検証の為の検証・解析ソフトウェアです。

	Pattern-centric技術と分散処理にて高速処理を提供します。

	一般的なUNIX/Linuxで動作する正確で高速なモデルベースのフルチップ検証を行います。バッチジョブあるいはGUIモードの柔軟な選択をできます。

	完全なプロセスウィンドウ RET/OPC検証のための総合的な検査機能 ○　line widthとspace のCDエラーを検出。 ○　BridgeとBreakの検出。 ○ HOLEサイズとエリアカバーチェック機能。 ○ Gate CD uniformity ○ Line-end pull back とend cap length のチェツク機能。 ○ SRAF printability, side-lobe の検出等。